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| HPLC级乙腈空白梯度洗脱规范的意义 | |
| 发布者：郑州宝晶电子科技有限公司 发布时间：2023/1/27 阅读：2876次 | |
HPLC级乙腈空白梯度洗脱规范的意义
如果溶剂中的杂质水平低于1 ppm，简单的UV光谱通常检测不到其存在[1]。然而，这些痕量杂质可能在有机相和水相比例较低时在柱上富集并保留，然后当梯度过程中流动相洗脱能力增强时被洗脱下来，从而形成鬼峰[7]。因此，HPLC空白梯度洗脱基线上的鬼峰高低，是评价HPLC级乙腈质量的关键规范方法。它清楚地表明了乙腈中是否 含有影响梯度洗脱模式下HPLC分析的痕量的杂质。
《试剂化学品》（第9版）明确规定214 nm处HPLC空白梯度洗脱基线的最大峰高应低于5 mAU。
具体的测定方法如下：
C18柱（250 mm×4.6 mm i.d.，5 μm）；
梯度：0 min，80% 水（溶剂A），20% 乙腈（溶剂B），保持30 min；
在50 min时达到 100% B，保持10 min；流速2 mL/min。样品运行3次，并去掉第1次运行的结果[5]。
图7比较了B&J ACS/HPLC和几种国内色谱级乙腈样品的ACS空白梯度洗脱基线。
结果表明，一些本地产色谱级乙腈样品在254 nm时会产生高达20 mAU的鬼峰。这说明即使在254 nm处，这些国产试剂也可能在HPLC常规分析中产生干扰。
在HPLC的一些实际应用中，往往需要在更低波长处使用梯度洗脱模式以实现高灵敏度的HPLC分析，因此对乙腈的HPLC空白梯度洗脱规范提出了更高的要求。为了满足高灵敏HPLC应用的要求，一些溶剂供应商也生产梯度级HPLC乙腈。这种乙腈不同于用于等度洗脱HPLC分析的乙腈，它们可以满足更严格的梯度洗脱规范。例如，Honeywell Burdick & Jackson的空白梯度洗脱基线规格为：254 nm时低于1 mAU，215 nm时低于5 mAU。
图1中，在215 nm下，不同供应商的梯度级乙腈的梯度洗脱基线不同，说明它们用于低波长梯度洗脱模式痕量HPLC分析的质量不同。 |
